[发明专利]一种硅酸盐类荧光粉及其表面包覆氧化物隔膜薄膜的装置和工艺有效
| 申请号： | 201310528359.1 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103668119A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 左雪芹;梅永丰 | 申请（专利权）人： | 无锡迈纳德微纳技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/452;C23C16/40;B22F1/02 |
| 代理公司： | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人： | 张秋云 |
| 地址： | 214028 江苏省无锡市新区长*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅酸盐类荧光粉及其表面包覆氧化物隔膜薄膜的装置和工艺，其中，所述装置中设有荧光粉特用沉积室，所述沉积室为单层或多层结构设置，每层沉积室由荧光粉沉积区域（1）和布满沉积区域（1）周围的气道（2）构成，所述气道为原子层沉积的前驱体以及载气的进入和排出的管路。本发明实现了原子层沉积（ALD)技术在荧光粉外围包覆隔膜薄膜层以提高其性能的目的。本发明在ALD技术的基础上发明一种特用荧光粉包覆的沉积室，并进一步改进原子层沉积的工艺以满足荧光粉包覆的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅酸 盐类 荧光粉 及其 表面 氧化物 隔膜 薄膜 装置 工艺 | ||
【主权项】：
一种荧光粉特用沉积室，其特征在于：所述沉积室为单层或多层结构设置，每层沉积室由荧光粉沉积区域（1）和布满沉积区域（1）周围的气道（2）构成，所述气道为原子层沉积的前驱体以及载气的进入和排出的管路。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
