[发明专利]一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备有效
| 申请号： | 201310491720.8 | 申请日： | 2006-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN103510052A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 池昶恂 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 陈舒维;周艳玲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种支撑加热坩埚的装置，包括支撑台和防污盘，支撑台的上表面形成有许多孔洞，防污盘分布于支撑台的各个孔洞入口处，并且具有相对于孔洞的开放部分以及沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 支撑 加热 坩埚 装置 以及 包括 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种支撑加热坩埚的装置，包括：支撑台，其上表面上形成有许多孔洞；防污盘，每个所述防污盘分布于支撑台上所述许多孔洞中的一个对应孔洞的入口处，并且具有相对于所述对应孔洞的开放部分以及沿所述对应孔洞内壁延伸的遮蔽部分；以及电热丝，每个所述电热丝分布于支撑台上所述许多孔洞中的一个对应孔洞处，其中每个所述电热丝的上端位于对应的所述防污盘的所述遮蔽部分的下端与对应的所述孔洞内的所述加热坩埚的上端之间；其中每个所述防污盘还具有朝向所述对应孔洞的中心轴延伸的突出部分。
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