[发明专利]用于光学非球面加工的磁悬液抛光装置

摘要

本发明涉及一种用于光学非球面加工的磁悬液抛光装置，包括Z轴运动导轨模块，磁悬液抛光头机构，工作台，底座，X轴运动导轨模块，Y轴运动导轨模块，主轴支架，立柱，立柱上面固定连接Z轴运动导轨模块，Z轴运动导轨模块通过主轴支架固定连接磁悬液抛光头机构，底座前部上面依次连接X轴运动导轨模块和Y轴运动导轨模块，Y轴运动导轨模块上面固定连接工作台。本发明结构简单、成本低，相对于传统光学非球面抛光技术，无需抛光液循环、过滤系统；维护方便，仅需要在加工一段时间后，磁悬液中水分蒸发后补充相应的水即可；操作方便，加工时，通过三轴运动机构完将抛光头旋转主轴对准非球面工件主轴，并使的磁悬液与工件抛光表面接触即可。

主权项

一种用于光学非球面加工的磁悬液抛光装置，包括Z轴运动导轨模块(11)，磁悬液抛光头机构(12)，工作台(14)，底座(15)，X轴运动导轨模块(16)，Y轴运动导轨模块(17)，主轴支架(18)，立柱(19)，底座(15)后部上面固定连接立柱(19)，其特征在于：所述立柱(19)上面固定连接Z轴运动导轨模块(11)，Z轴运动导轨模块(11)通过主轴支架(18)固定连接磁悬液抛光头机构(12)，底座(15)前部上面依次连接X轴运动导轨模块(16)和Y轴运动导轨模块(17)，Y轴运动导轨模块(17)上面固定连接工作台(14)。