[发明专利]一种大掩模版整形装置和方法有效
申请号: | 201310473556.8 | 申请日: | 2013-10-11 |
公开(公告)号: | CN104570592B | 公开(公告)日: | 2019-04-30 |
发明(设计)人: | 江旭初;王鑫鑫;魏龙飞;梁晓叶 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种大掩模版整形装置和方法,包括:大掩模版、承版台、若干组垂向提升机构和若干组测量装置;其中,所述大掩模版固定在所述承版台上;所述测量装置将测量的大掩模版的位置信号反馈于对应的所述垂向提升机构;所述垂向提升机构依据反馈信号调节所述大掩模版的垂向位置。本发明通过垂向提升机构和测量装置对大掩模版进行整形,实现大掩模版垂向变形量的实时闭环控制,有效保证了大掩模版的整形效果,解决了因大掩模版自重变形所导致的成像质量问题,且本发明结构简单,操作便捷。 | ||
搜索关键词: | 掩模版 垂向 提升机构 测量装置 整形装置 反馈信号调节 实时闭环控制 位置信号反馈 垂向位置 整形效果 质量问题 变形量 整形 成像 变形 测量 保证 | ||
【主权项】:
1.一种大掩模版整形装置,其特征在于,包括:大掩模版、承版台、若干组垂向提升机构和若干组测量装置;其中,所述大掩模版固定在所述承版台上;所述测量装置将测量的大掩模版的位置信号反馈于对应的所述垂向提升机构;所述垂向提升机构依据位置反馈信号调节所述大掩模版的垂向位置;所述垂向提升机构包括:驱动装置、轴杆、柔性装置、气浮轴承和轴套;其中,所述驱动装置包括:驱动装置定子和驱动装置动子;所述驱动装置定子和所述轴杆分别固定在一支座上;所述驱动装置动子与所述轴套固定连接;所述轴杆和所述轴套之间形成导向装置;所述柔性装置一端与所述轴套连接,另一端与所述气浮轴承连接;所述气浮轴承和所述大掩模版之间形成有一具有双向刚度的气膜。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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