[发明专利]一种双阀激光溅射反应源无效
| 申请号： | 201310468675.4 | 申请日： | 2013-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN103560071A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 唐紫超;谢华;刘志凌;秦正波;张世宇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | H01J49/16 | 分类号： | H01J49/16 |
| 代理公司： | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人： | 张晨 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种双阀激光溅射反应源，该装置结构由溅射激光，脉冲阀a，脉冲阀b，样品靶，反应通道以及喷嘴组成。该发明具有很强的通用性，不仅可以产生难熔的金属团簇，而且可以产生半导体甚至绝缘体的团簇。系统结构简单，便于维护和操作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 溅射 反应 | ||
【主权项】：
一种双阀激光溅射反应源，其特征在于：该装置结构由溅射激光，脉冲阀a，脉冲阀b，样品靶，反应通道以及喷嘴组成；脉冲阀a位于装置的顶端，脉冲阀a的下端与反应通道相连，反应通道的下端与喷嘴相连，在反应通道的右侧是样品靶，左侧是脉冲阀b。
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