[发明专利]基板清洗装置及研磨装置有效

专利信息
申请号: 201310461098.6 申请日: 2013-09-30
公开(公告)号: CN103707179B 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 前田幸次;下元博;中野央二郎 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34;B24B37/00
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 梅高强;刘煜
地址: 日本东京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种基板清洗装置,具有:收容基板(W)的清洗槽(1);配置在清洗槽(1)内的基板保持部(2);将药液供给于由基板保持部(2)保持的基板(W)的药液喷嘴(5);以及将清洗液供给于清洗槽(1)内表面(1a)的多个清洗液喷嘴(7),对清洗槽(1)的内表面(1a)实施粗糙化处理、亲水性材料的涂层等的亲水化处理。采用本发明,可用廉价材料构成清洗槽,同时可防止药液对清洗槽的腐蚀。
搜索关键词: 清洗 装置 研磨
【主权项】:
1.一种基板清洗装置,其特征在于,具有:收容基板的清洗槽;配置在所述清洗槽内的基板保持部;通过将药液供给于所述基板从而腐蚀所述基板的药液喷嘴,所述基板由所述基板保持部保持;在所述药液喷嘴将药液供给于所述基板的期间,将清洗液供给于所述清洗槽的内表面的多个清洗液喷嘴;以及使所述多个清洗液喷嘴同步摆动的摆动机构,对所述清洗槽的内表面实施亲水化处理,所述多个清洗液喷嘴,沿由所述基板保持部保持的所述基板的全周方向排列,并且,所述多个清洗液喷嘴面对构成所述清洗槽的内表面的正面、背面以及两个侧面地配置。
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