[发明专利]靶材的喷砂方法在审
| 申请号： | 201310452849.8 | 申请日： | 2013-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN104511841A | 公开（公告）日： | 2015-04-15 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;喻洁 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24C1/04 | 分类号： | B24C1/04;B24C11/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种靶材的喷砂方法，包括：提供靶材，所述靶材包括喷砂区；对所述喷砂区进行两次以上的喷砂处理，且前一次喷砂处理中采用的砂粒尺寸大于后一次喷砂处理中采用的砂粒尺寸。本发明可以精确控制喷砂的粗糙度，避免喷砂的粗糙度过低或过高，且能够保证喷砂区域粗糙度的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 喷砂 方法 | ||
【主权项】：
一种靶材的喷砂方法，其特征在于，包括：提供靶材，所述靶材包括喷砂区；对所述喷砂区进行两次以上的喷砂处理，且前一次喷砂处理中采用的砂粒尺寸大于后一次喷砂处理中采用的砂粒尺寸。
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