[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201310401156.6 申请日: 2013-09-05
公开(公告)号: CN103456744A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 陈小川;薛海林;王磊;薛艳娜;车春城 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,该阵列基板上的双栅薄膜晶体管的制备工艺较简单,降低了阵列基板的制备成本。该阵列基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的多个双栅薄膜晶体管,所述双栅薄膜晶体管包括位于所述衬底基板上的第一栅极层和与所述第一栅极层重叠的第二栅极层,所述第二栅极层与所述阵列基板的公共电极层同层设置,所述第一栅极层和所述第二栅极层的电位相等。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的多个双栅薄膜晶体管,其特征在于,所述双栅薄膜晶体管包括位于所述衬底基板上的第一栅极层和与所述第一栅极层重叠的第二栅极层,所述第二栅极层与所述阵列基板的公共电极层同层设置,所述第一栅极层和所述第二栅极层的电位相等。
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