[发明专利]掺氟类金刚石薄膜、其制备方法及包含该薄膜的压印模板有效
申请号: | 201310396714.4 | 申请日: | 2013-09-04 |
公开(公告)号: | CN103436853A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 石振;李丰;邓萌萌;葛海雄;杨立梅 | 申请(专利权)人: | 苏州锦元纳米科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/505;C23C14/06;B82Y40/00 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋 |
地址: | 215126 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种掺氟类金刚石薄膜、其制备方法以及包含该薄膜的压印模板,该薄膜沉积在基体表面上,薄膜中氟的质量含量为1%~4%;薄膜厚度为1~10nm。本发明公开的薄膜具有类金刚石薄膜的优点,同时具有优异的疏水、防粘性能以及与基体较好的粘接性,保护基体上结构的整体性并提高了基体的重复使用率;并且制备工艺简易、成本低,可应用于纳米压印模板的防粘处理。 | ||
搜索关键词: | 掺氟类 金刚石 薄膜 制备 方法 包含 压印 模板 | ||
【主权项】:
一种掺氟类金刚石薄膜,该薄膜沉积在基体表面上,其特征在于:以质量计,所述薄膜中氟的含量为1%~4%;所述薄膜厚度为1~10nm。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的