[发明专利]一种制备多孔性前趋层及吸收层薄膜平坦化的方法

摘要

本发明公开了一种制备多孔性前趋层及吸收层薄膜平坦化的方法，使用工作气氛压力大于10mtorr，及镀率小于10nm/mins低功率溅镀，使得前驱物形成多孔性的薄膜，并使薄膜表面粗糙度大大降低(<100nm)，达到了最佳平坦度，避免了薄膜与基板产生剥离和裂痕；且可以使硒化或硫化后的吸收层(CIGS)表面粗度降低，有利于后续缓冲层及光窗层的制作，明显提升了CIGS薄膜太阳能电池的效率。

主权项

一种制备多孔性前趋层及吸收层薄膜平坦化的方法，其特征为：首先将Cu、Ga材料放入真空感应熔炼炉中进行熔炼，然后浇铸在三寸的低碳钢的模具中，待降温12小时候脱膜取出靶材胚体经机加工成三寸溅镀用CuGa靶材备用；另外将In材料放入真空感应熔炼炉中进行熔炼，然后浇铸在三寸的低碳钢的模具中，待降温12小时候脱膜取出靶材胚体经机加工成三寸溅镀用In靶材备用；然后以无碱玻璃为基板，接着把所需镀着玻璃基材、CuGa靶材、In靶材放入溅镀腔体中，先以DC电源溅镀第一层500nm厚的Mo薄膜，然后溅镀第二层1000nm厚的CIG吸收层前趋物薄膜，接着将镀制好薄膜放在硒化炉中进行后硒化，然后取出试片，即得。