[发明专利]射频控制系统及方法、反应腔室、等离子体加工设备有效
| 申请号： | 201310293564.4 | 申请日： | 2013-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN104281185A | 公开（公告）日： | 2015-01-14 |
| 发明（设计）人： | 韦刚;武晔 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G05F1/46 | 分类号： | G05F1/46;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种射频控制系统及方法、反应腔室、等离子体加工设备,其包括射频功率输出模块、检测模块和控制模块，其中，射频功率输出模块用于向线圈输出射频功率；检测模块用于检测线圈中的射频电流，并将其检测到的射频电流值发送至控制模块；控制模块用于根据由检测模块发送而来的射频电流值与预设的射频电流标准值而获得射频电流偏差，且根据该射频电流偏差计算射频功率输出值，并根据该射频功率输出值向射频功率输出模块发送控制信号；射频功率输出模块根据控制信号向线圈输出射频功率输出值。本发明提供的射频控制系统，其可以校准线圈中的射频电流值与射频电流标准值之间的偏差，从而可以提高等离子体加工设备的工艺精确度和工艺重复性。 | ||
| 搜索关键词： | 射频 控制系统 方法 反应 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种射频控制系统，其包括射频功率输出模块，用以向线圈输出射频功率，以在线圈内产生射频电流，其特征在于，所述射频控制系统还包括检测模块和控制模块，其中所述检测模块用于检测所述线圈中的射频电流，并将其检测到的射频电流值发送至所述控制模块；所述控制模块用于根据由所述检测模块发送而来的射频电流值与预设的射频电流标准值而获得射频电流偏差，且根据该射频电流偏差计算射频功率输出值，并根据该射频功率输出值向所述射频功率输出模块发送控制信号；所述射频功率输出模块根据所述控制信号向所述线圈输出所述射频功率输出值。
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