[发明专利]放射线敏感性树脂组合物和化合物

摘要

本发明的目的在于提供满足曝光宽容度和MEEF性能的放射线敏感性树脂组合物及适合用于该放射线敏感性树脂组合物的化合物，该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下式(1)表示的基团与氮原子结合的结构的化合物、(B)具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂和(C)放射线敏感性酸产生剂。

主权项

1.一种放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法，该方法具有如下工序：（1）使用放射线敏感性树脂组合物在基板上形成光致抗蚀剂膜，（2）介由液浸介质，通过具有规定图案的掩模对所形成的光致抗蚀剂膜照射放射线，进行曝光，（3）加热基板，所述基板上形成有经曝光的光致抗蚀剂膜，接着（4）进行显影；该放射线敏感性树脂组合物含有：（A）具有下式（1）表示的基团与氮原子结合的结构的化合物，（B）具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂，和（C）放射线敏感性酸产生剂；式（1）中，Y为由下式（i）表示并且碳原子数为5～20的1价基团，“*”表示与氮原子的结合位点；式（i）中，R¹、R²和R³各自独立地为碳原子数1～4的直链状或支链状的烷基、或者碳原子数4～12的1价脂环式烃基，或者R¹和R²相互结合而与它们所结合的碳原子一起形成碳原子数为4～12的2价脂环式烃基，“*”表示与氧原子的结合位点。