[发明专利]一种利用三氧化钼制备钼粉的方法有效

专利信息
申请号: 201310270019.3 申请日: 2013-06-30
公开(公告)号: CN103273073A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 韩强;马全智;李卫昌 申请(专利权)人: 金堆城钼业股份有限公司
主分类号: B22F9/22 分类号: B22F9/22
代理公司: 西安创知专利事务所 61213 代理人: 谭文琰
地址: 710077 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种利用三氧化钼制备钼粉的方法,包括以下步骤:一、将三氧化钼过40目筛取筛上物,然后将过筛后的筛上物投入球磨机中球磨,得到三氧化钼粉末;二、在氢气气氛下,采用一次还原炉对三氧化钼粉末进行一次氢气还原处理,得到二氧化钼;三、在氢气气氛下,采用二次还原炉对二氧化钼进行二次氢气还原处理,得到粗制钼粉;四、将粗制钼粉过筛后置于混料机中混合均匀,得到成品钼粉。本发明制备工艺简单,安全可靠,适合工业化批量生产。采用本发明制备的钼粉能够满足国家标准GB/T3461-2006的技术要求,可广泛用于制备钼板坯、钼棒坯、钼顶头、钼异型件等钼及钼合金制品的原料。
搜索关键词: 一种 利用 氧化钼 制备 方法
【主权项】:
一种利用三氧化钼制备钼粉的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤一、将三氧化钼过40目筛取筛上物,然后将过筛后的筛上物投入球磨机中球磨,得到三氧化钼粉末;所述三氧化钼粉末中钼的质量百分含量不小于66.6%;步骤二、在氢气气氛下,采用一次还原炉对步骤一中所述三氧化钼粉末进行一次氢气还原处理,得到二氧化钼;所述一次氢气还原处理的时间为5.5h~6.0h,所述氢气的流速为10m/s~15m/s,所述氢气的露点为‑70℃~‑60℃;所述一次氢气还原处理采用四温区或五温区还原制度,当采用四温区还原制度时各温区的温度依次为:530℃、570℃、610℃和650℃,当采用五温区还原制度时各温区的温度依次为530℃、560℃、590℃、620℃和650℃;步骤三、在氢气气氛下,采用二次还原炉对步骤二中所述二氧化钼进行二次氢气还原处理,得到粗制钼粉;所述二次氢气还原处理的时间为7.0h~7.5h,所述氢气的流速为15m/s~25m/s,所述氢气的露点为‑75℃~‑65℃;所述二次氢气还原处理采用三温区、五温区或六温区还原制度,当采用三温区还原制度时各温区的温度依次为920℃、970℃和1020℃,当采用五温区还原制度时各温区的温度依次为920℃、945℃、970℃、995℃和1020℃,当采用六温区还原制度时各温区的温度依次为920℃、940℃、960℃、980℃、1000℃和1020℃;步骤四、将步骤三中所述粗制钼粉过160目~200目筛取筛下物,然后将过筛后的筛下物置于混料机中混合均匀,得到成品钼粉。
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