[发明专利]等离子处理装置有效
| 申请号： | 201310234798.1 | 申请日： | 2007-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN103347360A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 仲上慎二;中野博彦 | 申请（专利权）人： | 莎姆克株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 樊建中 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 等离子处理装置，在被处理物的上方具备感应线圈，n个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称，而且各线圈要素被电性地并联连接，并且感应线圈处于载置有被处理物的反应腔的上部；感应线圈的各线圈要素，包含下面部和给电部，下面部是一端具备接地端且具有规定的宽度的弧状，该弧的中心角为360°/n；给电部是一端具备给电端且具有规定的宽度的弧状，与下面部相比设置在上侧，给电部通过连接部与该下面部电性连接，各线圈要素的给电端及接地端与其他的线圈要素隔开，感应线圈中n个线圈要素配置成，当以平行于轴的方向将感应线圈投影到被处理物上时，使某一线圈要素的接地端和另一线圈要素的给电端的投影位置处于反应腔的内部的相同部位。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，其特征在于：在被处理物的上方具备感应线圈，该感应线圈由具有相同形状的n个线圈要素构成，n为2以上，所述n个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称，而且各线圈要素被电性地并联连接，并且所述感应线圈处于载置有所述被处理物的反应腔的上部；所述感应线圈的各线圈要素，包含下面部和给电部，所述下面部是一端具备接地端且具有规定的宽度的弧状，该弧的中心角为360°/n；所述给电部是一端具备给电端且具有规定的宽度的弧状，与所述下面部相比设置在上侧，所述给电部通过连接部与该下面部电性连接，各线圈要素的给电端及接地端与其他的线圈要素隔开，所述感应线圈中n个线圈要素配置成，当以平行于所述轴的方向将所述感应线圈投影到所述被处理物上时，使某一线圈要素的接地端和另一线圈要素的给电端的投影位置处于所述反应腔的内部的相同部位。
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