[发明专利]一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法

摘要

一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法，属于ZrO2纳米片的制备方法。采用直接氧化刻蚀ZrB2陶瓷的方法，通过化学反应，原位自组装生成分等级单斜相ZrO2纳米片，步骤如下：1）选取ZrB2作为锆源，以热分解可产生氧气的物质作为氧源，以强腐蚀性氢氟酸作为辅助材料；2）配置氧源溶液，并添加表面活性剂，充分搅拌溶解；3）称取ZrB2陶瓷粉和钇盐，分别加入到上述溶液中；4）然后添加强腐蚀性氢氟酸，充分搅拌后，转移到特氟龙内衬的反应釜中进行水热反应；5）反应结束后，将产物过滤，用去离子水和乙醇清洗，并在烘箱中干燥；6）将干燥的产物热处理后得到最终单斜相ZrO2纳米片。该制备方法过程简单，操作条件易于控制，可用于实验室研究的少量制备及大批量生产。

主权项

一种分等级单斜相ZrO2纳米片的制备方法，其特征是：采用直接氧化刻蚀ZrB2陶瓷的方法，并通过一系列化学反应，原位自组装生成分等级单斜相ZrO2纳米片；该制备方法包括如下步骤：1）选取ZrB2作为锆源，以热分解可产生氧气的物质作为氧源，以强腐蚀性氢氟酸作为辅助材料；2）配置氧源溶液，并添加表面活性剂，充分搅拌溶解；3）称取ZrB2陶瓷粉和钇盐，分别加入到上述溶液中；4）然后添加强腐蚀性氢氟酸，充分搅拌后，转移到特氟龙内衬的反应釜中进行水热反应；5）反应结束后，将产物过滤，用去离子水和乙醇清洗，并在烘箱中干燥；6）将干燥的产物热处理后得到最终单斜相ZrO2纳米片。