[发明专利]绝缘膜形成用感光性树脂组合物、绝缘膜、以及绝缘膜的形成方法

摘要

本发明提供能够形成绝缘性和耐试剂性优异的绝缘膜、且在形成绝缘膜的图案时的曝光裕度宽的绝缘膜形成用感光性树脂组合物。另外，本发明还提供使用上述的绝缘膜形成用感光性树脂组合物而形成的绝缘膜、以及使用上述的绝缘膜形成用感光性树脂组合物的绝缘膜的形成方法。本发明的感光性树脂组合物，在(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合性单体、以及(C)光聚合引发剂中配合特定结构的化合物，并使用包含特定量的来自包含环氧基的不饱和化合物的结构单元的树脂作为(A)碱可溶性树脂。

主权项

1.一种绝缘膜形成用感光性树脂组合物，其含有(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合性单体、(C)光聚合引发剂、以及(D)下述式(1)所示的化合物，所述(A)碱可溶性树脂为包含来自不饱和羧酸的结构单元(a1)8质量％～16质量％、来自包含环氧基的不饱和化合物的结构单元(a2)20质量％～60质量％的共聚物，式中，R1及R2彼此结合而形成碳数2～20的杂环烷基或杂芳基，或者R1及R2分别独立地表示氢原子、碳数1～12的烷基或碳数1～12的芳基，其中，R1及R2中的至少一方为碳数1～12的烷基或碳数1～12的芳基；R3表示单键；R4及R5分别独立地表示氢原子、碳数1～10的烷基、碳数4～13的环烷基、碳数4～13的环烯基、碳数7～20的芳烷基、碳数1～10的烷氧基、或碳数6～20的芳基；R6、R7、R8及R9分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、或硝基；其中，R6及R7不为羟基；R10表示氢原子或碳数1～12的烷基。