[发明专利]具有边缘障壁膜的电子装置和其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310084325.8 申请日: 2013-03-15
公开(公告)号: CN103311452B 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 普拉什特·曼德利克;瑞清·马;茱莉亚·J·布朗 申请(专利权)人: 环球展览公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 代理人: 王璐
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请案涉及具有边缘障壁膜的电子装置和其制备方法。提供第一制品,所述第一制品包括衬底、安置在所述衬底之上的具有装置占据空间的装置和在所述衬底之上并且实质上沿所述装置占据空间的侧面安置的障壁膜。所述障壁膜可包含聚合物材料与非聚合物材料的混合物。所述障壁膜可具有离所述装置占据空间的所述侧面不到或等于3.0mm的垂直长度。所述障壁膜可减少装置降级并保护敏感组件以防例如水蒸气等环境污染物进入。
搜索关键词: 具有 边缘 障壁膜 电子 装置 制备 方法
【主权项】:
一种具有障壁膜的电子制品,其包含:衬底;安置在所述衬底之上的装置,所述装置具有装置占据空间;和障壁膜,所述障壁膜在所述衬底之上并且实质上沿所述装置占据空间的侧面安置;其中所述障壁膜包含聚合硅与无机硅的混合物、或氧化物与聚合物硅酮的混合物;并且其中所述障壁膜具有离所述装置占据空间的所述侧面在0.5mm到3.0mm的范围内的垂直长度,所述范围包括端点。
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