[发明专利]具有减少的非装置边缘区的电子装置和其制造方法有效
申请号: | 201310084157.2 | 申请日: | 2013-03-15 |
公开(公告)号: | CN103311454B | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 普拉什特·曼德利克;瑞清·马;杰弗瑞·西尔弗奈尔;茱莉亚·J·布朗;韩琳;西古德·瓦格纳;卢克·瓦尔斯基 | 申请(专利权)人: | 环球展览公司;普林斯顿大学 |
主分类号: | H01L51/54 | 分类号: | H01L51/54;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人: | 王璐 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请案涉及具有减少的非装置边缘区的电子装置和其制造方法。提供一种第一制品,其包含衬底,所述衬底具有第一表面、第一侧面和第一边缘,其中所述第一表面与所述第一侧面相接;和安置在所述衬底之上的装置,所述装置具有第二侧面,其中所述第二侧面的至少第一部分在离所述衬底的所述第一边缘3mm内安置。所述第一制品可进一步包含第一障壁膜,所述第一障壁膜覆盖所述衬底的所述第一边缘的至少一部分、所述衬底的所述第一侧面的至少一部分和所述装置的所述第二侧面的至少所述第一部分。所述制品可避免由大气条件引起的降级增加。 | ||
搜索关键词: | 具有 减少 装置 边缘 电子 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种具有减少的非装置边缘区的电子装置,其包含:第一衬底,其具有第一表面、第一侧面和第一边缘,其中所述第一表面与所述第一侧面相接;安置在所述第一衬底之上的第一装置,其与所述第一表面共面,所述第一装置具有第二侧面;其中所述第二侧面的至少第一部分在离所述第一衬底的所述第一边缘3mm内安置;和第一障壁膜,其覆盖所述第一衬底的所述第一边缘的至少一部分、所述第一衬底的所述第一侧面的至少一部分和所述第一装置的所述第二侧面的至少所述第一部分。
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