[发明专利]样本制备装置和样本制备方法无效
| 申请号： | 201310083008.4 | 申请日： | 2013-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN103308356A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 满欣 | 申请（专利权）人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;H01J37/317;H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种样本制备装置和样本制备方法。样本制备装置包括样本台，用于支撑样本；聚焦离子束镜筒，用于将聚焦离子束施加到样本并且处理样本；以及照射区域设置单元，用于设置聚焦离子束照射区域，该聚焦离子束照射区域包括第一照射区域和第二照射区域，第一照射区域用于形成将被电子束照射以检测背向散射电子的观察区段，第二照射区域用于倾斜表面，该倾斜表面相对于观察区段的法线方向倾斜67.5°以上且小于90°的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 样本 制备 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种样本制备装置，所述样本制备装置包括：样本台，所述样本台用于支撑样本；聚焦离子束镜筒，所述聚焦离子束镜筒用于将聚焦离子束施加到所述样本并且对所述样本进行处理；以及照射区域设置单元，所述照射区域设置单元用于设置聚焦离子束照射区域，所述聚焦离子束照射区域包括：第一照射区域，所述第一照射区域用于形成将被电子束照射以检测背向散射电子的观察区段；以及第二照射区域，所述第二照射区域用于形成倾斜表面，所述倾斜表面连接到所述观察区段和所述样本的表面，并且相对于所述观察区段的法线方向以67.5°以上且小于90°的角度倾斜。
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