[发明专利]离子源有效
| 申请号： | 201310068783.2 | 申请日： | 2013-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN103313501A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 角谷晶子;桥本清;佐藤洁和;长内昭宏;吉行健;来栖努;林和夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐冰冰;刘杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材（13）配置在被排气成真空的真空容器（10）内，且通过激光的照射产生离子。具有输送管（17）、小孔（18）、中间电极（19）以及加速电极（20）的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器（10）内的靶材时，真空密封用盘（24）对输送部进行密封，以将真空容器（10）侧与下游侧的设备侧的真空分离。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 | ||
【主权项】：
一种离子源，该离子源与连接于上述离子源的被排气成真空的下游侧的设备连接，其特征在于，上述离子源具备：真空容器，被排气成真空；靶材，配置在上述真空容器内，且通过激光的照射而产生离子；输送机构，将由上述靶材产生的离子朝上述下游侧的设备输送；以及真空密封机构，在更换配置于上述真空容器内的靶材之前，密封上述输送机构，以将上述真空容器侧和上述下游侧的设备侧的真空分离。
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