[发明专利]纳米结构的制造无效
申请号: | 201310058387.1 | 申请日: | 2007-05-31 |
公开(公告)号: | CN103213971A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | R.A.默库里 | 申请(专利权)人: | 戴雷克塔普拉斯股份公司 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04;B82Y30/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黄念;李进 |
地址: | 意大利科*** | 国省代码: | 意大利;IT |
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摘要: | 生产纳米结构的方法,包括提供包含石墨烯层的石墨薄片;插层石墨薄片以形成呈现I阶,II阶或III阶插层的石墨插层化合物;和在多个单个石墨烯层从石墨插层化合物分离的条件下剥离该石墨插层化合物。 | ||
搜索关键词: | 纳米 结构 制造 | ||
【主权项】:
一种制备纳米结构的方法,包括:提供包含石墨烯层的石墨薄片;插层该石墨薄片以形成呈现I阶,II阶或III阶插层的石墨插层化合物;在电弧或高频感应或微波的条件下剥离该石墨插层化合物,使得通过紊流移置剥离层并且多个单个石墨烯层从石墨插层化合物分离。
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