[发明专利]记录装置、记录方法、再生装置和再生方法无效

专利信息
申请号: 201310055705.9 申请日: 2013-02-21
公开(公告)号: CN103295597A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 安藤秀树;堀米顺一 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G11B7/09 分类号: G11B7/09;G11B7/1374
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了记录装置、记录方法、再生装置和再生方法,其中,该记录装置包括:光照射单元;参考平面跟踪控制单元;记录单元,其在由第一和第二物镜照射的记录光束被分别指定为第一和第二记录光束时通过独立调制第一和第二记录光束来执行在记录介质上的记录;记录层跟踪控制单元,其在由第一物镜照射的伺服光束被指定为第一伺服光束且由第二物镜照射的伺服光束被指定为第二伺服光束时,基于第一伺服光束的反射光执行第一物镜的跟踪控制,并基于第二伺服光束的反射光执行第二物镜的跟踪控制;以及控制单元,其控制参考平面跟踪控制单元、记录层跟踪控制单元和记录单位。
搜索关键词: 记录 装置 方法 再生
【主权项】:
一种记录装置,其包括:光照射单元,其被配置为具有两个物镜,通过所述两个物镜要被照射到参考平面的参考平面光束以及要被照射到记录层的记录光束和伺服光束作为要被照射到记录介质的光束而入射,所述记录介质具有位置导向部形成于其上的参考平面和以平面形状形成的记录层;并且所述光照射单元被配置为使用所述物镜将所述参考平面光束、所述记录光束和所述伺服光束照射到所述记录介质;参考平面跟踪控制单元,其被配置为在由所述光照射单元中的第一物镜照射的参考平面光束被指定为第一参考平面光束且由所述光照射单元中的第二物镜照射的参考平面光束被指定为第二参考平面光束时,基于所述第一参考平面光束的反射光执行所述第一物镜的跟踪控制,并基于所述第二参考平面光束的反射光执行所述第二物镜的跟踪控制;记录单元,其被配置为当由所述第一物镜照射的记录光束被指定为第一记录光束,且由所述第二物镜照射的记录光束被指定为第二记录光束时,通过独立调制所述第一记录光束和所述第二记录光束在所述记录介质上执行记录;记录层跟踪控制单元,其被配置为在由所述第一物镜照射的伺服光束被指定为第一伺服光束且由第二物镜照射的伺服光束被指定为第二伺服光束时,基于所述第一伺服光束的反射光执行所述第一物镜的跟踪控制,并基于所述第二伺服光束的反射光执行所述第二物镜的跟踪控制;以及控制单元,其被配置为控制所述参考平面跟踪控制单元、所述记录层跟踪控制单元和所述记录单元,其中,在基于所述第一参考平面光束的反射光通过所述第一物镜的跟踪控制移动所述第一记录光束以绘制节距是记录在所述记录层上的轨道节距的至少两倍的螺旋的同时开始由所述第一记录光束进行记录之后,所述控制单元以由所述第一记录光束记录的第一螺旋上的最新旋转部分为对象执行由所述第二伺服光束进行的跟踪伺服,在由所述第二伺服光束进行的跟踪伺服已被应用至所述最新旋转部分的状态下开始由所述第二记录光束进行记录,以及在根据所述第一物镜的控制已将所述第一伺服光束调准至第二螺旋之后,执行以所述第二螺旋为对象由所述第一伺服光束进行的跟踪伺服引入。
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