[发明专利]制造设备、制造方法、光学元件、显示装置和电子设备有效

专利信息
申请号: 201310037633.5 申请日: 2013-01-31
公开(公告)号: CN103323979B 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 小糸健夫;高间大辅 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器西
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1333;G02F1/1337;G02F1/29;G02B27/22
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 焦玉恒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种制造方法、制造设备、光学元件、显示装置和电子设备,该制造方法包括给第一基板和第二基板的至少一个提供结构元件,该结构元件在第一基板和第二基板之间提供预定的间隙;在第一和第二基板的每一个上形成取向膜;以及使第一和第二基板的每一个上形成的取向膜经受摩擦工艺。结构元件在形成该取向膜后且在执行该摩擦工艺之前或之后形成。
搜索关键词: 制造 设备 方法 光学 元件 显示装置 电子设备
【主权项】:
一种制造液晶透镜的方法,包括:提供第一基板和第二基板,其配置于进行图像显示的显示单元的显示表面侧,具有大于或等于10μm的间隙并相对配置;提供透镜单元,其设置于该第一基板和该第二基板之间,并选择性地改变从显示单元发射的光线的通过状态;向该第一基板和该第二基板的至少之一提供结构元件,该结构元件在该第一基板和该第二基板之间提供预定的间隙;在该第一基板和该第二基板的每一个上形成取向膜;以及使该第一基板和该第二基板的每一个上形成的该取向膜经受摩擦工艺,其中该结构元件在形成该取向膜后且在执行该摩擦工艺之前形成,其中该摩擦工艺通过离子束取向进行。
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