[发明专利]膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置无效

专利信息
申请号: 201310023443.8 申请日: 2013-01-22
公开(公告)号: CN103226105A 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 西村幸治;平田肇;森诚树 申请(专利权)人: 东丽工程株式会社
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;B05C11/00
代理公司: 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 代理人: 吴京顺;任晓航
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置,即使对伴随微小膜厚不匀的纵筋或横段,能够在刚涂布完后可靠地发现膜厚不匀,该膜厚不匀检测装置包括:照射部,向基板上的涂布膜照射特定照射图案的光;光接收部,接收从涂布膜表面反射的反射光;判断部,对由光接收部接收的光图案和特定的照射图案进行比较,由此判断涂布膜的形成状态是否良好;其中,判断部包括:图像比较部,比较接收光图案和照射图案;偏差提取图像生成部,用图像比较部比较接收光图案和照射图案以提取偏差;累加计算部,从偏差提取的图像累加计算散布的偏差提取图像的面积;累加计算偏差面积判断部,判断累加计算的偏差提取面积累加计算值是否比判断基准值大。
搜索关键词: 膜厚不匀 检测 装置 方法 带有
【主权项】:
一种膜厚不匀检测装置,其特征在于,包括:照射部,向形成在基板上的涂布膜照射特定的照射图案的光;光接收部,用于接收从所述涂布膜的表面反射的所述特定的照射图案的反射光;检测部,对通过所述光接收部所接收到的所述反射光的接收光图案和与所述特定的照射图案相对应的基准图案进行比较,由此判断涂布膜的形成状态是否良好;其中,所述检测部包括:图像比较部,对所述接收光图案和所述基准图案进行比较;偏差提取图像生成部,将由在所述图像比较部对所述接收光图案和所述基准图案进行比较后作为具有偏差的部分提取的像素构成的图像作为偏差提取图像来生成;偏差提取像素面积累加计算部,将所述偏差提取图像的存在于规定区域内的所述偏差提取的像素的面积作为偏差提取像素面积累加计算值进行累加计算;累加计算偏差面积判断部,判断所述偏差提取像素面积累加计算值是否比判断基准值大。
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