[发明专利]改性氧化锆微粒粉末、改性氧化锆微粒分散溶胶及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310014575.4 申请日: 2013-01-15
公开(公告)号: CN103922397B 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 山口纯;松田政幸;村口良 申请(专利权)人: 日挥触媒化成株式会社
主分类号: C01G25/02 分类号: C01G25/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 金明花
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供分散性、流动性优异的改性氧化锆微粒粉末、改性氧化锆微粒分散溶胶及其制造方法,该粉末是经有机硅化合物表面处理的改性氧化锆微粒的粉末,其特征在于,平均二次粒径(DM2)在5~500nm的范围、平均一次粒径(DM1)在5~500nm的范围、平均二次粒径(DM2)与平均一次粒径(DM1)之比(DM2)/(DM1)在1~10的范围。所述有机硅化合物为下式(1)表示的有机硅化合物,该微粒中的有机硅化合物的含量以Rn‑SiO(4‑n)/2(n为1~3的整数)计为1~50重量%的范围,29Si MAS NMR谱的主峰的半宽度在3~15ppm的范围。Rn‑SiX4‑n (1)(式中,R为碳数1~10的非取代或取代烃基,可以互相相同或不同。X碳数1~4的烷氧基、羟基、卤素、氢,n1~3的整数)。
搜索关键词: 改性 氧化锆 微粒 粉末 分散 溶胶 及其 制造 方法
【主权项】:
改性氧化锆微粒粉末,它是经有机硅化合物表面处理的改性氧化锆微粒的干燥粉末,其特征在于,平均二次粒径(DM2)在5~500nm的范围、平均一次粒径(DM1)在5~500nm的范围、平均二次粒径(DM2)与平均一次粒径(DM1)之比(DM2)/(DM1)在1~10的范围,所述有机硅化合物为下式(1)表示的有机硅化合物,所述改性氧化锆微粒粉末中的有机硅化合物的含量以Rn‑SiO(4‑n)/2计在1~50重量%的范围,29Si MAS NMR谱的主峰的半宽度在3~15ppm的范围,Rn‑SiX4‑n                (1)式中,R为碳数1~10的非取代或取代烃基,可以互相相同或不同,X:碳数1~4的烷氧基、羟基、卤素、氢,n:1~3的整数。
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