[发明专利]环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法有效
| 申请号： | 201280056230.9 | 申请日： | 2012-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN103946204A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 越后雅敏;山川雅子 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C43/215 | 分类号： | C07C43/215;C07C37/20;C07C41/16;G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明的环状化合物为分子量500～5000的式(1)所示的环状化合物。 |
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| 搜索关键词： | 环状 化合物 制造 方法 辐射 敏感 组合 图案 形成 | ||
【主权项】：
一种式(1)所示的环状化合物，其分子量为500～5000，![]()
式(1)中，R0分别独立地为氢原子、羟基、氰基、硝基、取代或者未取代的杂环基、卤素原子、取代或者未取代的碳数1～20的直链状脂肪族烃基、取代或者未取代的碳数3～20的支链状脂肪族烃基、取代或者未取代的碳数3～20的环状脂肪族烃基、取代或者未取代的碳数6～20的芳基、取代或者未取代的碳数7～30的芳烷基、取代或者未取代的碳数1～20的烷氧基、取代或者未取代的碳数0～20的氨基、取代或者未取代的碳数2～20的链烯基、取代或者未取代的碳数1～20的酰基、取代或者未取代的碳数2～20的烷氧基羰基、取代或者未取代的碳数1～20的烷酰基氧基、取代或者未取代的碳数7～30的芳酰基氧基、取代或者未取代的碳数1～20的烷基甲硅烷基、或这些基团与二价基团(选自由取代或者未取代的亚烷基、取代或者未取代的亚芳基和醚基组成的组中的1个以上的基团)键合而成的基团，所述R0中的至少一者为包含2‑丙烯基的一价基团。
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