[发明专利]具有前焦距校正的光学器件的晶片级制造

摘要

晶片堆（100）包括被称为光学晶片的第一晶片（OW1）和被称为隔离晶片的第二晶片（SW），所述光学晶片（OW1）具有制造不规则性。隔离晶片（SW）被结构化成使得其至少部分地补偿所述制造不规则性。用于制造器件（其特别地能够是光学器件）的相应方法包括执行校正步骤以便至少部分地补偿制造不规则性。这样的校正步骤包括提供被称为隔离晶片的晶片（SW），其中，该隔离晶片被结构化以便至少部分地补偿所述制造不规则性。那些制造不规则性可包括与标称值的偏差，例如焦距的不规则性。本发明能够允许以高产率来批量生产高精度器件。

主权项

一种用于制造器件、特别是光学器件的方法，所述方法包括执行校正步骤用于至少部分地补偿制造不规则性，所述校正步骤包括提供被称为隔离晶片的晶片，所述隔离晶片被结构化成用于至少部分地补偿所述制造不规则性，特别地其中，所述制造不规则性包括与标称值的偏差。