[发明专利]制备由锆钛酸铅制成的薄膜的方法有效
| 申请号： | 201280018356.7 | 申请日： | 2012-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN103547700A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 卡斯顿·吉伯乐;尼尔·康威 | 申请（专利权）人： | 派洛斯有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;H01L21/02;H01L37/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备由呈111取向的钙钛矿结构的锆钛酸铅制成的薄膜的方法，其包含以下步骤：提供衬底温度高于450℃的衬底以及铅靶材、锆靶材和钛靶材；通过将来自相应靶材的铅、锆和钛溅射到所述衬底上来施加所述薄膜，其中铅、锆和钛的总沉积速率大于10nm/min，选择锆的沉积速率以使得所述薄膜中锆的原子浓度相对于锆和钛的原子浓度在0.2与0.3之间，且视衬底温度以及铅、锆和钛的总沉积速率而定，选择足够低的铅的沉积速率以使得111取向的锆钛酸铅的X射线衍射图在33°到35.5°的衍射角范围内具有显著峰值（19）；以及完成所述薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 锆钛酸 铅制 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种制备由呈111取向的钙钛矿结构的锆钛酸铅制成的薄膜的方法，其包含以下步骤：提供温度超过450℃的衬底以及铅靶材、锆靶材和钛靶材；通过将来自所述相应靶材的铅、锆和钛溅射到所述衬底上来施加所述薄膜，其中，铅、锆和钛的总沉积速率大于10nm/min，选择锆的沉积速率以使得所述薄膜中锆的原子浓度相对于锆和钛的原子浓度在0.2到0.3的范围内，且视所述衬底温度以及铅、锆和钛的总沉积速率而定，选择足够低的铅的沉积速率以使得111取向的锆钛酸铅的X射线衍射图在33°到35.5°的衍射角范围内具有显著峰值（19）；以及完成所述薄膜。
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