[实用新型]达林顿三极管有效

专利信息
申请号: 201220702193.1 申请日: 2012-12-18
公开(公告)号: CN203085532U 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 李建球;杨晓智;黄佳 申请(专利权)人: 深圳市鹏微科技有限公司
主分类号: H01L27/082 分类号: H01L27/082;H01L23/522
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 刘健;黄韧敏
地址: 518000 广东省深圳市福田*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种达林顿三极管,所述三极管包括P/N型衬底;分别形成于P/N型衬底顶表面的第一N/P层和第二N/P层;形成于第一N/P层顶表面的第一P+/N+层;形成于第二N/P层顶表面的第二P+/N+层以及第三P+/N+层;形成于第一N/P层、第二N/P层、第一P+/N+层、第二P+/N+层以及第三P+/N+层顶表面的氧化物掩膜;以及形成于氧化物掩膜上的第一引线孔、第二引线孔、第三引线孔以及第四引线孔,所述第二引线孔与第三引线孔通过金属引线连接,且氧化物掩膜上覆盖有PI塑料层。借此,本实用新型使达林顿管的主三极管的B极和副三极管的E极相连时,不会导致氧化物掩膜下面的P/N层产生反型作用,实现了单片式达林顿管去掉副三极管的BE结间偏置电阻的目的。
搜索关键词: 达林顿 三极管
【主权项】:
一种达林顿三极管,其特征在于,所述三极管包括P/N型衬底;分别形成于所述P/N型衬底顶表面的第一N/P层和第二N/P层,所述第一N/P层和所述第二N/P层相互隔离;形成于所述第一N/P层顶表面的第一P+/N+层;形成于所述第二N/P层顶表面的第二P+/N+层以及第三P+/N+层;形成于所述第一N/P层、第二N/P层、第一P+/N+层、第二P+/N+层以及第三P+/N+层顶表面的氧化物掩膜;以及形成于所述氧化物掩膜上的第一引线孔、第二引线孔、第三引线孔以及第四引线孔,所述第一引线孔与第一N/P层对应,所述第二引线孔与所述第一P+/N+层对应,所述第三引线孔与所述第二N/P层对应,所述第四引线孔与所述第二P+/N+层、第三P+/N+层以及第二N/P层对应,所述第二引线孔与所述第三引线孔通过金属引线连接,且所述氧化物掩膜上覆盖有PI塑料层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市鹏微科技有限公司,未经深圳市鹏微科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220702193.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top