[实用新型]达林顿三极管有效
申请号: | 201220702193.1 | 申请日: | 2012-12-18 |
公开(公告)号: | CN203085532U | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 李建球;杨晓智;黄佳 | 申请(专利权)人: | 深圳市鹏微科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/082 | 分类号: | H01L27/082;H01L23/522 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 刘健;黄韧敏 |
地址: | 518000 广东省深圳市福田*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种达林顿三极管,所述三极管包括P/N型衬底;分别形成于P/N型衬底顶表面的第一N/P层和第二N/P层;形成于第一N/P层顶表面的第一P+/N+层;形成于第二N/P层顶表面的第二P+/N+层以及第三P+/N+层;形成于第一N/P层、第二N/P层、第一P+/N+层、第二P+/N+层以及第三P+/N+层顶表面的氧化物掩膜;以及形成于氧化物掩膜上的第一引线孔、第二引线孔、第三引线孔以及第四引线孔,所述第二引线孔与第三引线孔通过金属引线连接,且氧化物掩膜上覆盖有PI塑料层。借此,本实用新型使达林顿管的主三极管的B极和副三极管的E极相连时,不会导致氧化物掩膜下面的P/N层产生反型作用,实现了单片式达林顿管去掉副三极管的BE结间偏置电阻的目的。 | ||
搜索关键词: | 达林顿 三极管 | ||
【主权项】:
一种达林顿三极管,其特征在于,所述三极管包括P/N型衬底;分别形成于所述P/N型衬底顶表面的第一N/P层和第二N/P层,所述第一N/P层和所述第二N/P层相互隔离;形成于所述第一N/P层顶表面的第一P+/N+层;形成于所述第二N/P层顶表面的第二P+/N+层以及第三P+/N+层;形成于所述第一N/P层、第二N/P层、第一P+/N+层、第二P+/N+层以及第三P+/N+层顶表面的氧化物掩膜;以及形成于所述氧化物掩膜上的第一引线孔、第二引线孔、第三引线孔以及第四引线孔,所述第一引线孔与第一N/P层对应,所述第二引线孔与所述第一P+/N+层对应,所述第三引线孔与所述第二N/P层对应,所述第四引线孔与所述第二P+/N+层、第三P+/N+层以及第二N/P层对应,所述第二引线孔与所述第三引线孔通过金属引线连接,且所述氧化物掩膜上覆盖有PI塑料层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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