[实用新型]真空连续沉浸机的真空浸渍装置有效
| 申请号： | 201220553487.2 | 申请日： | 2012-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN202848640U | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 戴振华 | 申请（专利权）人： | 张家港市双成电工设备有限公司 |
| 主分类号： | B65G49/04 | 分类号： | B65G49/04 |
| 代理公司： | 张家港市高松专利事务所(普通合伙) 32209 | 代理人： | 孙高 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市张家*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种密封效果好的真空连续沉浸机的真空浸渍装置，包括真空浸渍缸和两条相互平行的循环链，所述循环链安装于机壳内部，两条循环链对应的链轴之间连接有悬挂轴，该真空浸渍缸位于循环链下方的浸渍工位，且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降，所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖，该缸盖通过悬挂装置间隔均匀的悬挂于循环链的各悬挂轴上，所述缸盖的下端安装有待浸渍工件，所述真空浸渍缸的上端法兰上安装有与缸盖下端面密封配合的密封装置，所述真空浸渍缸与抽真空装置连接，在浸渍工位处位于下段循环链的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑装置。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 连续 沉浸 浸渍 装置 | ||
【主权项】：
真空连续沉浸机的真空浸渍装置，包括真空浸渍缸和两条相互平行的循环链，所述循环链安装于机壳内部，其特征在于：两条循环链对应的链轴之间连接有悬挂轴，该真空浸渍缸位于循环链下方的浸渍工位，且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降，所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖，该缸盖通过悬挂装置间隔均匀的悬挂于循环链的各悬挂轴上，所述缸盖的下端安装有待浸渍工件，所述真空浸渍缸的上端法兰上安装有与缸盖下端面密封配合的密封装置，所述真空浸渍缸与抽真空装置连接，在浸渍工位处位于下段循环链的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑装置。
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