[实用新型]一种用于拉制5寸区熔单晶硅加热线圈有效
| 申请号: | 201220235934.X | 申请日: | 2012-05-24 |
| 公开(公告)号: | CN202658262U | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
| 发明(设计)人: | 刘剑 | 申请(专利权)人: | 刘剑 |
| 主分类号: | C30B13/20 | 分类号: | C30B13/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 332000 *** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及一种用于拉制5寸区熔单晶硅加热线圈,包括线圈盘体,此线圈盘体与外侧线圈法兰盘相接,同时,所述线圈盘体外围环绕设置环形线圈水路,此线圈盘体外径设置为130mm-250mm。本实用新型有益效果为:产品单匝加热线圈内径小,可形成腰细、距离短的熔区,使之更稳定;在生产中加热后产生磁场应力,和炉内生长条件形成一个非动态平衡条件,从而有利于循环生产;尤其对于大直径单晶生长可提高成功率,利于降低功耗的损失,提高了功率利用率;可依据不同直径的原料采用不同的线圈来改变生长时产生的磁场,对于原料化料的形状和旋转的角度改变较为理想;有利于多晶原料消除硅刺的现象,成晶更稳定。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 拉制 寸区熔 单晶硅 加热 线圈 | ||
【主权项】:
一种用于拉制5寸区熔单晶硅加热线圈,包括线圈盘体(5),此线圈盘体(5)与外侧线圈法兰盘(1)相接,其特征在于:所述线圈盘体(5)外围环绕设置环形线圈水路(4),此线圈盘体(5)外径设置为130mm‑250mm。
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