[实用新型]硅片清洗洗片装置有效

专利信息
申请号: 201220201731.9 申请日: 2012-05-07
公开(公告)号: CN202667189U 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 肖贵云;胡如权;承梦月;冯春霞 申请(专利权)人: 常州顺风光电材料有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;H01L21/67
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 路接洲
地址: 213164 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种硅片清洗洗片装置,包括用于清洗硅片的超声槽,所述的超声槽的槽体内侧两边分别安装两根水管,两根水管的下方安装有超声发生器,槽体中心放置带粘晶板的硅片。本实用新型结构简单,使用方便,能使带粘晶板的硅片表面都被超声清洗到,同时硅片表面不会有砂浆残留,降低了后续制绒过程中的返工率。
搜索关键词: 硅片 洗洗 装置
【主权项】:
一种硅片清洗洗片装置,其特征在于:包括用于清洗硅片的超声槽,所述的超声槽的槽体内侧两边分别安装两根水管,两根水管的下方安装有超声发生器,槽体中心放置带粘晶板的硅片。
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