[发明专利]一种GST中性化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201210586914.1 | 申请日： | 2012-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN103897603A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 闫未霞;王良咏;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学机械抛光液领域，尤其涉及一种可有效应用于相变材料GST的化学机械抛光液。本发明提供一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：二氧化硅抛光颗粒0.2-30wt%；氧化剂0.01-5wt%；表面活性剂0.01-4wt%；余量为pH值调节剂和去离子水；所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6-8。本发明提供的用于相变材料GST的中性化学机械抛光液，所述的经过烷基改性，金属氧化物包裹，胺型改性，无机离子改性等方法改性的SiO2抛光颗粒，在pH值6-8范围内，zeta电位的绝对值30-80mv，胶体达到了稳定，从而形成稳定的中性化学机械抛光液。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 gst 中性 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：二氧化硅抛光颗粒 0.2‑30wt%；氧化剂 0.01‑5wt%；表面活性剂 0.01‑4wt%；余量为pH值调节剂和去离子水；所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6‑8。
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