[发明专利]一种太阳能选择性吸收膜及其制备方法无效
申请号: | 201210586254.7 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103029371A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 郭射宇;殷志强 | 申请(专利权)人: | 郭射宇;殷志强 |
主分类号: | B32B15/01 | 分类号: | B32B15/01;B32B33/00;C23C14/34;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/14;F24J2/46 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215200 江苏省苏州市吴江市经济开发区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种太阳能选择性吸收膜及其制备方法,该吸收膜包括形成在基材上的介质层、形成在所述的介质层上的吸收层、形成在所述的吸收层上的减反层,所述的吸收层为金属和金属化合物的复合材料,所述的吸收层中金属原子占该膜层总物质的摩尔比为0.3到0.9,所述的吸收层的厚度为10-60nm;所述的减反层的厚度为70-100nm。当太阳能选择性吸收膜受到自然光照射后,一部分光穿过吸收层,被吸收;另一部分光穿过介质层,到达金属基片或红外反射层表面,被反射,并再次穿过介质层和吸收层。通过调整介质层的厚度,调整光的相位,使得光在吸收层中干涉最大,而在吸收层外干涉最小。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳能 选择性 吸收 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种太阳能选择性吸收膜,其特征在于:它包括形成在基材上的介质层、形成在所述的介质层上的吸收层、形成在所述的吸收层上的减反层,所述的吸收层为金属和金属化合物的复合材料,所述的金属化合物是金属氧化物或金属氮化物或金属氮氧化物,所述的金属为铬、镍、铝、钛、钨、钼、钽、铌以及镍基合金、钨钼合金、铁基合金、不锈钢中的一种,所述的金属化合物为氧化铬、氧化铝、氧化镍、氧化钛、氧化钨、不锈钢氧化物,氧化硅、氧化锡、氮化铝、氮化硅、氮氧化铝、氮氧化硅中的一种,所述的吸收层中金属原子占该膜层总物质的摩尔比为0.3到0.9,所述的吸收层的厚度为10‑60nm;所述的减反层的厚度为70‑100nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郭射宇;殷志强,未经郭射宇;殷志强许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210586254.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:齿轮加工夹具
- 下一篇:斜齿面齿轮自动珩磨机