[发明专利]一种晶圆缺陷的检测系统和方法有效
| 申请号： | 201210585636.8 | 申请日： | 2012-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN103065993A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 卢意飞 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;林彦之 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种晶圆缺陷检测系统，包括傅立叶滤波器，其包括位于光强信号采集范围内的多个阻挡单元，所述阻挡单元为第一方向排列的第一阻挡单元和/或第二方向排列的第二阻挡单元；切换模块，与所述傅里叶滤波器相连，根据检测方向将所述阻挡单元切换为所述第一阻挡单元或所述第二阻挡单元；以及检测器，检测傅立叶滤波器透射的光。本发明还相应提供了一种晶圆缺陷检测方法。通过本发明的晶圆缺陷检测系统和方法，在一次传送过程中就能完成不同方向图形上的晶圆缺陷检测，提高了设备产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缺陷 检测 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种晶圆缺陷检测系统，其特征在于，包括：傅立叶滤波器，其包括位于光强信号采集范围内的多个阻挡单元，所述阻挡单元为第一方向排列的第一阻挡单元和/或第二方向排列的第二阻挡单元；切换模块，与所述傅里叶滤波器相连，根据检测方向将所述阻挡单元切换为所述第一阻挡单元或所述第二阻挡单元；以及检测器，与所述傅立叶滤波器相连，检测所述傅立叶滤波器透射的光强信号。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
