[发明专利]电光调制器的制造方法及应用此方法制成的电光调制器

摘要

电光调制器的制造方法及应用此方法制成的电光调制器，电光调制器的制造方法包括以下步骤。首先，提供基板，基板包括透光基板及导电膜，导电膜形成于透光基板上。然后，利用涂布形成单层液晶聚合材料层于导电膜上，其中液晶聚合材料包括混合的液晶分子、光趋官能基及光起始剂。然后，通过离型层加压液晶聚合材料层。然后，利用光线的控制，以第一光线通过离型层照射液晶聚合材料层，使光起始剂的一些及光趋官能基的一些往第一光线的方向聚集，进而使形成一聚合保护膜。然后，以第二光线通过透光基板照射光起始剂的另一些及其余具不同反应性的光趋官能基的另一些，而形成液晶层。然后，移除离型层，以露出聚合保护膜。

主权项

一种电光调制器的制造方法，其特征在于，包括：提供一基板，其中该基板包括一透光基板及一导电膜，该导电膜形成于该透光基板上；利用单层涂布形成一液晶聚合层于该导电膜上，其中该液晶聚合层包括混合的多个液晶分子及多个高分子材料，该些高分子材料包括多个光趋官能基，且该液晶聚合层还包括多个光起始剂；通过一离型层加压该液晶聚合层；分离该液晶聚合层为一聚合保护膜及一液晶层，包括：以一第一光线通过该离型层照射该液晶聚合层，利用该些高分子材料反应性的不同，使该些光起始剂的一第一部分及该些光趋官能基的一第一部分往该第一光线的方向聚集，进而使该些光趋官能基的该第一部分聚合成该聚合保护膜；及以一第二光线照射该些光起始剂的一第二部分及该些光趋官能基的一第二部分，而使该些光趋官能基的该第二部分聚合成一聚合膜，其中该聚合膜及该些液晶分子形成一液晶层，该些液晶分子分散于该聚合膜中，其中该第二光线的光强度大于该第一光线的光强度；以及移除该离型层，以露出该液晶聚合层。