[发明专利]一种用于金属抛光后的清洗液及其使用方法无效
| 申请号： | 201210557288.3 | 申请日： | 2012-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103882447A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 周文婷;荆建芬;蔡鑫元;张建;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/02 | 分类号： | C23G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于金属化学机械抛光后的清洗液，其包含至少一种有机酸，有机膦酸，还包含至少一种羧酸类聚合物和/或其盐。该清洗液可用于对含有金属的晶片抛光后的表面清洗。可将抛光后残留在晶片表面的研磨颗粒及金属离子、金属腐蚀抑制剂去除，降低晶片表面粗糙度,改善清洗后晶片表面的亲水性，降低表面缺陷，并且可以防止金属表面的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 金属 抛光 清洗 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种金属基板抛光后的清洗液，其特征在于，包括至少一种有机酸，有机膦酸，以及一种羧酸类聚合物和/或其盐。
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