[发明专利]基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法有效
| 申请号： | 201210553986.6 | 申请日： | 2012-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN102990480A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 戴一帆;解旭辉;袁征;周林;关朝亮;胡皓 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人： | 赵洪;杨斌 |
| 地址： | 410073 湖南省长沙市砚瓦池正*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法，包括以下步骤：以经过单点金刚石车削或磁流变抛光后的光学元件作为加工对象，采用基于低能离子溅射原理的离子束抛光方法对该加工对象的表面进行加工，在加工过程中，控制离子束对光学元件表面进行均匀扫略，加工结束后完成对光学元件表面的清洗。本发明的表面清洗方法简单易行，对设备要求低，可降低光学表面元件表面粗糙度和去除光学元件表面杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 离子束 抛光 光学 元件 表面 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法，包括以下步骤：以经过单点金刚石车削或磁流变抛光后的光学元件作为加工对象，采用基于低能离子溅射原理的离子束抛光方法对该加工对象的表面进行加工，在加工过程中，控制离子束对光学元件表面进行均匀扫略，加工结束后完成对光学元件表面的清洗。
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