[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201210546342.4 | 申请日： | 2012-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN103865402A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 尹先升;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其包括纳米氧化铈磨料抛光液、氧化剂、络合剂、腐蚀抑制剂及化学添加剂。本发明公开的抛光液在氧化铈、氧化剂、络合剂及腐蚀抑制剂的协同作用下，可达到一定的铜抛光去除速率，同时避免或降低抛光后铜表面抛光缺陷的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其特征在于，包括化学添加剂、研磨粒子、氧化剂、络合剂和腐蚀抑制剂。
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