[发明专利]一种化学机械抛光浆料的应用在审
| 申请号： | 201210545114.5 | 申请日： | 2005-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN103074632A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;张建;蔡鑫元;姚颖 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/06 | 分类号： | C23F3/06 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光浆料在铜抛光中的应用，其包括研磨颗粒、有机膦酸、聚丙烯酸类和/或其共聚物、氧化剂和载体。本发明的化学机械抛光浆料可以防止金属材料的局部和整体腐蚀，减少衬底表面污染物，降低研磨颗粒的含量，提高铜的去除速率和降低钽的去除速率，从而获得不同基底的抛光选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 浆料 应用 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光浆料在铜抛光中的应用，其包括研磨颗粒、有机膦酸、聚丙烯酸类和/或其盐类和/或聚丙烯酸类共聚物、氧化剂和载体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子(上海)有限公司，未经安集微电子(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210545114.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：复合酸金属表面清洗除垢剂
- 下一篇：化学气相沉积设备的反应腔室
