[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜电池透明导电层结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201210531568.7 申请日: 2012-12-10
公开(公告)号: CN103022173A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 汤勇;彭洁旻;杨晓军;万珍平;陆龙生;袁伟;梁元敏;钟福回 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236;H01L31/0224;H01L31/18;C23C14/54;C23C14/34;C23C14/14
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 蔡茂略
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种铜铟镓硒薄膜电池透明导电层及其制造方法,属于光电材料新能源技术领域。该铜铟镓硒薄膜电池包括上电极(Ni/Al),透明导电层(ZnO:Al),窗口层(ZnO),缓冲层(CdS),吸收层(P型CuInGaSe2),背电极(Mo)和衬底(玻璃/不锈钢等)。其透明导电层具有“类金字塔”表面陷光结构,为含Al掺杂ZnO薄膜。本发明所提供的“类金字塔”表面陷光结构,可增大光吸收的表面积,能有效地降低反射率,从而降低光学损失并提高电池转化效率。
搜索关键词: 一种 铜铟镓硒 薄膜 电池 透明 导电 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种铜铟镓硒薄膜电池透明导电层结构,包括铜铟镓硒透明导电层,其特征在于:所述导电层具有表面陷光结构,该表面陷光结构为类金字塔形。
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