[发明专利]低温低应力化学镀铜溶液有效
申请号: | 201210521267.6 | 申请日: | 2012-12-05 |
公开(公告)号: | CN103014682A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 王增林;李喜荣;李丽莎 | 申请(专利权)人: | 陕西师范大学 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40 |
代理公司: | 西安永生专利代理有限责任公司 61201 | 代理人: | 申忠才 |
地址: | 710062 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种低温低应力的化学镀铜溶液,主要是在以硫酸铜为主盐,四水合酒石酸钾钠为络合剂,甲醛或乙醛酸为还原剂的基础体系中添加加速剂、抑制剂、镍离子和阴离子表面活性剂,可实现在低温条件下快速沉积形成外观光亮、应力较低、质量好、粘结强度高的化学铜膜镀层,且本发明的化学镀铜溶液稳定,成本低,适于工业化应用。 | ||
搜索关键词: | 低温 应力 化学 镀铜 溶液 | ||
【主权项】:
1.一种低温低应力的化学镀铜溶液,其特征在于在1L的化学镀铜溶液包含有下述质量配比的原料:
上述的加速剂为含羧基衍生物或含氨基衍生物;上述的抑制剂为8-喹啉磺酰氯、2,2'-二硫二吡啶、2,9-二甲基啉菲罗啉、1-(4-吡啶基)哌嗪、2,2’-联吡啶和1,10-菲啰啉-5,6-二酮中的任意一种;上述的阴离子表面活性剂为椰油基羟乙基磺酸钠、N-椰子酰基谷氨酸单钠盐、壬基酚聚氧乙烯醚硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠、磺基琥珀酸蓖麻油酯钠盐中的任意一种。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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