[发明专利]清洁液组合物及其浓缩液和使用清洁液组合物的清洁方法在审
| 申请号： | 201210517904.2 | 申请日： | 2012-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN103146509A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 谷口优美子;守田菊恵;堀家千代子;大和田拓央 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;C11D7/36;C11D10/02 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 蒋雅洁;孟桂超 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种在半导体元件等电子设备的制造工艺中对金属杂质和微粒的除去性能优异且不腐蚀Cu，对含有铜配线的半导体基板进行清洁的清洁液组合物。所述清洁液组合物为对含有铜配线的半导体基板进行清洁的清洁液组合物，包括一种或两种以上的不含金属的碱性化合物以及一种或两种以上膦酸类螯合剂，且氢离子浓度(pH)为8～10。本发明还提供上述清洁液组合物的浓缩液，以及使用该清洁液组合物的清洁方法。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 组合 及其 浓缩 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种清洁液组合物，所述清洁液组合物为对含有铜配线的半导体基板进行清洁的清洁液组合物，所述清洁液组合物包括一种或两种以上的不含金属的碱性化合物以及一种或两种以上的膦酸类螯合剂；且pH为8～10。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于关东化学株式会社，未经关东化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210517904.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
