[发明专利]一种唇形密封结构的静密封方法无效

专利信息
申请号: 201210511405.2 申请日: 2012-12-04
公开(公告)号: CN103851204A 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 吴新华 申请(专利权)人: 上海通华不锈钢压力容器工程有限公司
主分类号: F16J15/48 分类号: F16J15/48
代理公司: 上海东方易知识产权事务所 31121 代理人: 欧阳俊立
地址: 201208 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种唇形密封结构的静密封方法,本发明采用唇形密封圈,其特征是唇形密封圈底部有半圆形凹槽,唇形密封圈圈体两侧有半圆弧形径向密封凸起,唇形密封圈的唇部与水平成30°~35°;容器或设备的下法兰有背压气流通道和真空通道通入唇形密封圈底部凹槽,唇形密封圈圈体与下法兰密封槽间隙0.2~0.25mm;外部气源通过下法兰背压气流通道进入半圆形凹槽,背压压力0.2MPa~1.5MPa将唇形密封圈托起,使唇形密封圈唇部的密封面与容器或设备上法兰密封面密封;唇形密封圈径向密封凸起与下法兰密封槽形成径向密封;容器或设备开启时,背压气流通道切换为真空通道,底部凹槽内的真空度0.07MPa,此时上法兰和下法兰可以开启。
搜索关键词: 一种 密封 结构 方法
【主权项】:
一种唇形密封结构的静密封方法,采用唇形密封圈,其特征是唇形密封圈的底部有半圆形的凹槽,唇形密封圈的圈体两侧有半圆弧形的径向密封凸起,径向密封凸起的半圆弧形高出圈体侧面0.8mm,唇形密封圈的唇口的唇部与水平成30°~35°角度;容器或设备的下法兰制有背压气流通道和真空通道通入唇形密封圈底部凹槽内,背压气流通道和真空通道经控制阀连接外部气源,唇形密封圈的圈体侧面与下法兰密封槽侧面间隙为0.2~0.25mm;唇形密封圈工作时,外部气源通过下法兰的背压气流通道进入唇形密封圈底部半圆形凹槽内,背压压力控制在0.2MPa~1.5MPa,形成的背压将唇形密封圈托起,使唇形密封圈唇部的密封面与容器或设备上法兰密封面紧密贴合,实现预密封,当容器或设备升压时,背压的压力值要比容器或设备内部的压力值高,并与内部压力使唇口张开产生自紧结合,共同完成上法兰与下法兰间的轴向密封;唇形密封圈的径向密封凸起与下法兰的密封槽两侧之间形成径向密封;容器或设备开启时,先内部泄压,同时将背压气流通道切换为真空通道,底部凹槽内的真空度至少0.07MPa,在唇形密封圈底部凹槽内形成真空,使唇形密封圈圈体回落至下法兰的密封槽底部,此时上法兰和下法兰可以开启。
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