[发明专利]防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统

摘要

本发明涉及半导体清洗工艺技术领域，具体涉及一种防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统。该防止液体飞溅的清洗装置，包括上壳和下壳，上壳可相对下壳上下运动，上壳包括上壳内壁和上壳外壁，上壳内壁和上壳外壁之间形成中空腔，上壳内壁上设有多个进液孔，进液孔与中空腔相通。本发明提供的防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统，通过在上壳上加设进液孔和中空腔，可实现在被清洗物的高速旋转过程中，化学试剂和/或清洗下来的颗粒通过进液孔进入中空腔内并通过排液孔排出，获得被清洗物的最佳的清洁效果；并且清洗装置和清洗系统的结构简单易清洗，工艺易实现，废液还便于收集。

主权项

一种防止液体飞溅的清洗装置，其特征在于，包括上壳和下壳，所述上壳可相对下壳上下运动，所述上壳包括上壳内壁和上壳外壁，所述上壳内壁和所述上壳外壁之间形成中空腔，所述上壳内壁上设有多个进液孔，所述进液孔均与所述中空腔相通。