[发明专利]一种研磨垫及利用该研磨垫进行研磨时的损耗检测方法有效
| 申请号： | 201210493978.7 | 申请日： | 2012-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN103029035A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 邓镭 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;G01B21/08 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种研磨垫及利用该研磨垫进行研磨时的损耗检测方法。本发明通过在设置有研磨沟槽的研磨垫上预设多个检测斜孔，在进行研磨工艺中需要对研磨垫损耗进行检测时，通过测量进行研磨工艺后的研磨垫上检测斜孔与沟槽之间的距离，并针对该沟槽利用预先设定数值及公式，计算出该研磨垫在该检测斜孔处的磨损情况，并继续对其他各个检测斜孔进行相同的工艺步骤，以能实时的检测该研磨垫在研磨工艺中表面全部位的磨损情况，进而达到充分利用该研磨垫的目的，以降低研磨工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 利用 进行 损耗 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，所述研磨垫上设置有研磨沟槽，其特征在于，所述研磨垫还设置有多个检测斜孔。
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