[发明专利]激光照射系统有效

专利信息
申请号: 201210487207.7 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN103129157A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 山本和孝 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: B41J2/455 分类号: B41J2/455;B41J3/44
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 曾贤伟;杨继平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种激光照射系统。该激光照射系统发射激光至贴附在被传输物体的一个侧面表面上的热可逆记录介质以执行图像擦除和图像记录之一。该激光照射系统包括:传输单元、检测单元、激光发射单元、以及控制单元,其中,所述控制单元将所述被传输物体传输至所述特定位置,以及当所述检测单元未检测到所述热可逆记录介质时,防止所述激光发射单元发射功率级大于或等于预定功率级的激光。
搜索关键词: 激光 照射 系统
【主权项】:
一种激光照射系统,用于发射激光至贴附在被传输物体的一个侧面表面上的热可逆记录介质,以执行图像擦除和图像记录之一,所述激光照射系统包括:传输单元,包括用于以预定传输方向传输所述被传输物体的传输路径;检测单元,用于检测在传输至所述传输路径上的特定位置的所述被传输物体的侧面表面上的热可逆记录介质的存在/不存在;激光发射单元,用于发射激光至所述被传输物体的所述侧面表面,所述被传输物体传输至所述传输路径的特定位置的传输方向的下游侧的至少一个预定位置;控制单元,用于控制所述传输单元和所述激光发射单元,其中,所述控制单元将所述被传输物体传输至所述特定位置,并且当所述检测单元未检测到所述热可逆记录介质时,防止所述激光发射单元发射功率级大于或等于预定功率级的激光。
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