[发明专利]一种太阳能电池硅片清洗剂及其清洗工艺有效
| 申请号： | 201210462267.3 | 申请日： | 2012-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN102952650A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 李一鸣;张震华;王建新 | 申请（专利权）人： | 绍兴拓邦电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D1/37;C11D1/72;C11D3/20;C11D3/10;C11D3/08;C11D3/04 |
| 代理公司： | 绍兴市越兴专利事务所 33220 | 代理人： | 张谦 |
| 地址： | 312000 浙江省绍*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种太阳能电池硅片清洗剂及清洗工艺，属于太阳能电池生产技术领域，由以下组分组成：0.5%-3%的表面活性剂、2.1%-13%的无机盐、1%-5%的有机盐，余量为去离子水；清洗工艺包括（1）按重量百分比将表面活性剂、无机盐、有机盐和去离子水混合配制成太阳能电池硅片清洗剂；（2）在步骤（1）中配制成的清洗剂中加入20～25倍体积的去离子水，搅匀后得太阳能电池硅片清洗液；（3）在常温下，将硅片放入步骤（2）中配制成的太阳能电池硅片清洗液中进行清洗。本发明对于硅片表面污染物采用相似相溶原理，达到良好的去污效果，对硅片表面无腐蚀，提高晶硅太阳能电池的质量，提高成品率，从而降低电池片生产的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 太阳能电池 硅片 洗剂 及其 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
一种太阳能电池硅片清洗剂，其特征在于：由表面活性剂、无机盐、有机盐和去离子水组成。
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