[发明专利]一种测定氮化硅材料中铁含量的方法无效
申请号: | 201210445440.9 | 申请日: | 2012-11-09 |
公开(公告)号: | CN103808791A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 墨淑敏;张志刚 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院 |
主分类号: | G01N27/64 | 分类号: | G01N27/64;G01N1/44 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 刘徐红 |
地址: | 100088 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种测定氮化硅材料中铁含量的方法,用微波消解进行样品前处理,并用电感耦合等离子体质谱仪测定氮化硅中铁杂质含量,包括称取氮化硅样品,加入HNO3和HF,采用微波消解处理氮化硅样品,得到样品溶液,加入Sc内标溶液,稀释得到待测溶液;随样做空白试验;用单晶硅打底,并且在每个标准溶液中加入等量的Sc内标溶液,配制铁的系列标准溶液;选定电感耦合等离子体质谱仪的工作条件,按照浓度由低到高对系列标准溶液进行分析,得到铁工作曲线;然后对空白溶液及氮化硅的待测溶液进行分析,带入工作曲线求得空白溶液中Fe浓度值及待测溶液中Fe浓度值;通过计算得到待测样品中铁的质量百分数。本方法准确度高,重现性好。 | ||
搜索关键词: | 一种 测定 氮化 材料 含量 方法 | ||
【主权项】:
一种测定氮化硅材料中铁含量的方法,包括以下步骤: (1)称取氮化硅样品,加入HNO3和HF,采用微波消解处理氮化硅样品,得到样品溶液,加入Sc内标溶液,稀释得到样品的待测溶液;随样做空白试验; (2)用单晶硅打底,并且在每个标准溶液中加入等量的Sc内标溶液,配制铁的系列标准溶液; (3)选定电感耦合等离子体质谱仪的工作条件,选择同位素56,在H2模式下测定,然后按照浓度由低到高对系列标准溶液进行分析,得到铁工作曲线;然后对空白溶液及氮化硅的待测溶液进行分析,得到空白及氮化硅待测溶液中Fe元素与内标Sc元素的信号强度比值,带入工作曲线求得空白溶液中Fe浓度值及氮化硅样品待测溶液中Fe浓度值; (4)根据步骤(3)得到的样品待测溶液中铁元素的浓度,通过计算得到待测样品中铁的质量百分数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京有色金属研究总院,未经北京有色金属研究总院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210445440.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种大口径厚壁管超声组合检测方法
- 下一篇:癌变细胞早期快速便携检测装置