[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201210411192.6 | 申请日： | 2012-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN103774150A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/06 | 分类号： | C23F3/06 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于铜钨合金的化学机械抛光液，其含有水、研磨颗粒、银离子、硫酸根离子、铜腐蚀抑制剂和氧化剂。本发明的抛光液可以在实现铜钨合金高速抛光速度的同时，显著抑制铜表面的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其含有水、研磨颗粒、银离子、硫酸根离子、铜腐蚀抑制剂和氧化剂。
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